24. У каких из кристаллов Н2О, SiO2, КСl, Li температура плавления наибольшая? Ответ обоснуйте.

Решение. В молекуле Н2О валентные электронные структуры водорода и кислорода сходны (1s1 и ...2s22p4), поэтому в результате перекрывания они образуют ковалентную связь (полярную). Так как их насыщаемость в соединении средняя (две связи), вещество является жидким и образует молекулярную кристаллическую решетку. А это влечет за собой низкую твердость вещества, его легкоплавкость, высокую растворимость.

В веществе SiO2 валентные электронные структуры кремния и кислорода сходны (...3s23p2 и ...2s22p4), поэтому в результате перекрывания они образуют ковалентную связь (малополярную). Так как их насыщаемость в соединении высока (четыре связи), вещество является твердым и образует атомную кристаллическую решетку. А это влечет за собой высокую твердость вещества, его тугоплавкость, малую растворимость и диэлектрические свойства.

В соединении КСl валентные электронные структуры калия и хлора сильно отличаются (...4s1 и ...3s23p5), поэтому в результате перекрывания они образуют ионную связь. И это вещество образует ионную кристаллическую решетку. А это влечет за собой среднюю твердость вещества, высокую растворимость, среднеплавкость и хорошую электропроводность.

В соединении Li атомы связываются друг с другом за счет общих электронов между катионами металла, поэтому в результате перекрывания они образуют металлическую связь. Так как вещество образует металлическую кристаллическую решетку, то оно обладает средней твердостью, его легкоплавкость и высокую электропроводность.

Следовательно, наибольшая температура плавления у кристаллов SiO2.

54. Возможно ли при 25ºС течение процессов:

а) Hg(ж) + S(к, ромб) = HgS(к),

б) 2Hg(ж) + О2(г) = 2НgO (к, красн)?