Застосування імпульсної режиму, вносить значні зміни у наступні параметри процесу осадження:

а) зміна ємності: ємнісній ефект  відіграє важливу роль у при зародженні та рості кристалів [4]. Також параметри ємнісного ефекту залежать від тривалості імпульсу та  паузи між імпульсами. Їм надають певної частоти, достатньої для того, щоб не відбувся розряд подвійного електричного шару [5].

б) маса перенесення: концентрація іонів металу в безпосередній близькості до катод пульсує,  з частотою імпульсного струму. Товщина дифузійного шару  в імпульсі зменшується, коли густина струму в імпульсі, збільшується. Це призводить до гладкої покриття поверхні [4].

в) кристалізція: зменшення густини струму та збільшення імпульсів забезпечує зростання утворень кристалічних центрів, адсорбованих на поверхні електроду, що призводить до більш швидкої нуклеації а, отже, більш тонкої структури [5].

г) кінетика: так як швидкість осідання під час імпульсного струму значно вища, при наявності кількох конкурентих реакцій  густина струму для кожної окремої реакції різна. Це може бути  використано для отримання гальванічних сплавів різного складу [5].

д) зворотні імпульси: дослідження показали, що періодична зміна напрямку струму (реверсивний струм) при електроосадженні металів за своєю значимістю в інтенсифікації процесів і покращенні якості покриттів часто перевершує будь-який з перерахованих вище факторів. Такий режим дозволяє скоротити тривалість процесу, покращити якість металевого осаду, збільшити густину струму і знизити концентрацію позитивно активних речовин в електроліті. Процес осадження металів на реверсивному струмі не може бути застосований для всіх електролітів, однак для деяких кислих і особливо лужних електролітів він ефективний[6].